第四代液体发泡剂:SolsticeTM 发泡剂(LBA)
SolsticeTMLBA(HFO-1233zd,1-氯,3,3,3三氟丙烯)是霍尼韦尔首先推出的第四代低全球变暖潜值(GWP)发泡剂,适用于家用电器、建筑保温、冷链运输和工业保温等领域聚氨酯隔热材料的发泡.
由霍尼韦尔公司开发出的低全球变暖潜值发泡剂SolsticeTMLBA是适用于聚氨酯发泡行业的一种能够同时满足各种工艺及环保要求的新一代发泡剂,具有高效节能、不燃、不含可挥发性有机物,低全球变暖潜值,安全环保等特点。
霍尼韦尔发泡剂主要应用在集装箱。湖北245fa发泡剂厂家供应
在循环条件范围内,HCFO-1233zd-E需要的泵功率降低10.3%–17.3%,并且比HFC-245fa的净循环效率高出10.6%。HCFO-1233zd-E所需的涡轮机尺寸比HFC-245fa大约7.5%–10.2%。在循环条件范围内,HFO-1336mzz-Z需要的泵功率降低36.5%–41%,并且比HFC-245fa的净循环效率高出17%。HFO-1336mzz-Z所需的涡轮机尺寸比HFC-245fa大约30.9%–41.5%。HFO-1336mzz-Z循环效率通过换热器得到显着提高。在较高的蒸发和冷凝温度下,相对于HFC-245fa,HCFO-1233zd-E和HFO-1336mzz-Z的净循环效率提高,所需的涡轮机尺寸减小。福建本地发泡剂生产厂家霍尼韦尔发泡剂可以用于制造各种类型的强化材料。
霍尼韦尔LBA做为第四代发泡剂的意味着之一,GWP数值1,SolsticeLBA发泡剂较传统式环戊烷能耗等级提高8%~12%。较别的冰箱能耗等级改进技术性,如应用真空绝热板或是高效率制冷压缩机等,SolsticeLBA具备更优的合理性,即企业能耗等级改进的成本费少。SolsticeLBA在改进能耗等级和合理性层面的优点早已在我国的大中型家电业生产制造中获得认证,美的、美丽的和康佳早已在其中国生产制造中大批量应用了SolsticeLBA发泡剂。据悉,霍尼韦尔Solstice系列发泡剂、制冷剂、推进剂与溶剂迄今已帮助全球减排超过2.5亿吨二氧化碳,相当于减少了超过5200万辆汽车一整年的潜在排放量。
为了减少这些化学物质,如氯氟烃(CFCs)、溴氟烃(HFCs)等的排放,国际社会已经采取了一系列措施,如《蒙特利尔议定书》等,但是这些措施还需要得到全球各国的积极响应和实施。平流层中的臭氧分子能有效吸收来自太阳的紫外线,使我们免受皮肤病、白内障及免疫系统伤害,还能保护陆地上的植物、单细胞生命体和水生生物系统。由于臭氧对地球的生命十分重要,人类组建了全球性的陆地臭氧观察站,监测大气中的臭氧含量。这些观察站能够提供有关臭氧层的详细信息,帮助科学家更好地了解臭氧层的状况,从而采取更加有效的措施来保护臭氧层。霍尼韦尔发泡剂可以用于制造各种类型的防水材料。
喷涂泡沫到HFO:发泡剂的转变
喷涂聚氨酯泡沫(SPF)是一种常用于隔热和屋顶应用的建筑材料。该材料以三种芯密度制造,与材料的应用或用途相对应。第一种是开孔隔热材料,通常密度为8kg/m3(0.5lb/cf),第二种是闭孔隔热材料,通常密度为32kg/m3(2.5至3.5lb/cf)密度喷涂泡沫行业目前正在采取一项重要工作,该工作直接影响闭孔SPF隔热材料和屋顶SPF。该举措是从使用氢氟碳化物(HFC)发泡剂转向使用氢氟烯烃(HFO)发泡剂。HFC是由氢、氟和碳组成的几种有机化合物中的任何一种,而HFO是由氢、氟和碳组成的不饱和有机化合物。与传统的HFC及其发泡剂前身氯氟烃(CFC)不同(两者都是饱和的),HFO是烯烃,也称为烯烃。推动基于HFO的喷雾泡沫技术是逐步淘汰使用已知会损害臭氧和气候的化学品的持续发展的一步。除了减少喷涂泡沫隔热材料和屋顶材料对环境的负面影响外,还有产品性能和安装方面的考虑。本文将解释发泡剂的变化以及为什么它对于那些考虑商业建筑项目中喷涂泡沫应用规范的人来说很重要。2020年,该行业转向使用氢氟烯烃(HFO)。它们的臭氧消耗潜值(ODP)为零,全球变暖潜值(GWP)值低于25.9。一些HFO的GWP值甚至为1。 霍尼韦尔聚氨酯发泡剂可以用于制造各种类型的绝缘材料。河北LBA发泡剂市场价格
发泡剂可以用于制造各种泡沫材料。湖北245fa发泡剂厂家供应
1976年4月,环境规划署(UNEP)讨论了臭氧层破坏问题。一年后,臭氧层会议在瑞士日内瓦召开,通过了"关于臭氧层行动的世界计划"。然而,直到上世纪80年代,科学家在南极上空发现"臭氧层空洞",世界各国才认识到臭氧层遭破坏的严重性。1985年3月,在奥地利首都维也纳举行的"保护臭氧层外交大会"上,21个国家签署了《保护臭氧层维也纳公约》(简称《维也纳公约》)。该公约是一个支持科学研究及信息交换的框架协定,为全球保护臭氧层的国际行动奠定了重要的法律基础。湖北245fa发泡剂厂家供应