CW琼脂基础（含卡那霉素） 日本

培养基按成分分类有哪些？按用途分类：根据用途不同，培养基可分为基础培养基、营养培养基、增菌培养基、选择性培养基、鉴别培养基、厌氧菌培养基等。基础培养基(basic media) 大多数微生物共同需要的营养基础。某--微生物如有特殊需要，可在此基础上添加某种成分即可，如蛋白胨水、肉汤培养基、营养琼脂等。1%蛋白胨水培养基便是一个较简单的基础培养基，该基础培养基本身可供一般细菌增菌培养和靛基质试验用，若再加入指示剂和糖类，则配成糖发酵培养基，供糖发酵试验用，成为鉴别培养基；若在1%蛋白胨水中增加氯化钠用量并将pH提高到8.6左右，则变成碱性蛋白胨水，用于霍乱弧菌的增菌培养，成为专门用的增菌培养基。0.9%氯化钠 大肠杆菌噬菌体ΦX174液体培养基 乳糖发酵培养基/乳糖复发酵培养基 伊红美蓝琼脂(不含乳糖)。CW琼脂基础（含卡那霉素） 日本

1951年厄尔开发了供动物细胞体外生长的人工合成培养基(MEM)。合成培养基的种类相当多。合成培养基成分已知，便于对实验条件的控制。但与天然培养基相比，有些天然的未知成分尚无法用已知的化学成分所替代，因此，细胞培养中使用的基础合成培养基还必须加入一定量的天然培养基成分，以克服合成培养基的不足。普遍的作法是加入小牛血清。动物血清成分复杂，各种生物大小分子混合在一起，有些成分至今尚未搞清楚。血清对细胞生长很有效，但后期对培养产物的分离、提纯以及检测造会成一定困难。另外高质量的动物血清来源有限，成本高，限制了它的大量使用。无血清培养基不加动物血清，在基础培养基中加入细胞生长有效因子等。1M硫酸镁溶液TYCSB液体培养基基础 七叶苷铁琼脂 叠氮化物葡萄糖液态培养基 Pfizer选择性肠球菌琼脂培养基。

L-谷氨酰胺在细胞培养中重要吗？它在溶液中不稳定吗？L-谷氨酰胺（L-Glutamine）是细胞生长的必须氨基酸，可作为培养细胞的能量来源，参与蛋白质的合成和核酸代谢。L-谷氨酰胺在溶液中状态不稳定，它的降解速率随保存时间，保存温度及保存环境pH值等变化而变化。L-丙胺酰-谷氨酰胺（L-alanyl-L-glutamine）是细胞培养中普遍使用的L-谷氨酰胺的替代品，其在水溶液中稳定性高，即可保持长时间稳定的营养供给，也降低了分解产物造成的细胞毒性。L-丙胺酰-谷氨酰胺溶液（L-alanyl-L-glutamineslution）可作为哺乳动物贴壁细胞或悬浮细胞培养添加剂。与谷氨酰胺相比，L-丙胺酰-谷氨酰胺不会自行降解成氨而导致细胞毒性，作为添加物培养条件更加可控，可有效提高细胞活力。

不同类型微生物生长对氧化还原电位（F）的要求不一样，一般好氧性微生物在F值为+0.1V以上时可正常生长，一般以+0.3—+0.4V为宜，厌氧性微生物只能在F值低于+0.1V条件下生长，兼性厌氧微生物在F值为+0.1V以上时进行好氧呼吸，在+0.1V以下时进行发酵。F值与氧分压和pH有关，也受某些微生物代谢产物的影响。在pH相对稳定的条件下，可通过增加通气量（如振荡培养、搅拌）提高培养基的氧分压，或加入氧化剂，从而增加F值；在培养基中加入抗坏血酸、硫化氢、半胱氨酸、谷胱甘肽、二硫苏糖醇等还原性物质可降低F值。有机磷细菌培养基不含琼脂 细胞壁缺陷型细菌培养基YPG培养基有机磷细菌培养基肉汤培养基(测磷细菌菌数)。

在培养基中加入 HEPES 有何好处?培养基中常用的缓冲体系是碳酸氢盐，它可提供营养，但却在生理 pH 条件下会降低缓冲能力。而HEPES 是一种很强的缓冲剂，能使细胞培养基在 pH7.2-7.6 条件下缓冲能力增强。HEPES溶液：是一种弱酸，中文名字是羟乙基哌秦乙硫磺酸，主要作用是防止培养基pH迅速变动。在开放式培养条件下，观察细胞时培养基脱离了 5%CO2 的环境，CO2 气体迅速逸出，pH迅速升高，若加了HEPES，此时可以维持 pH7.0 左右。一般在进行克隆化培养时要添加HEPES。神经细胞原代培养的过程中能用到。Falkow氏脱羧酶肉汤 枸橼酸盐培养基 溴甲酚紫牛乳培养基紫牛乳培养基 索恩利氏培养基 7%氯化钠胰胨水培养基 。M绿色酵母菌和霉菌肉汤

Karmali氏弯曲杆菌琼脂培养基基础 甘氨酸培养基 氧化三甲胺培养基/TMAO培养基 弯曲杆菌琼脂基础 肉浸液肉汤。CW琼脂基础（含卡那霉素） 日本

细胞培养液(liquid of culture cellulae) 是指用于各种目的的体外培养、保存、运输活组织及细胞的液体，实质为人工模拟体内生长的营养环境，使细胞在此环境中有生长和繁殖的能力。由于其成分数量明确并可通过调节某一种成分来观察被研究对象的各种生物学改变，被广泛应用于细胞生物学科的研究。细胞培养液的组成成分主要有水、氨基酸、维生素、碳水化合物、无机离子、生长因子等，这些成分必须通过严格挑选，严格测试后方可使用，所用的水必须达到2级试验用水(CB/T 6682-1992)，所用的器皿必须清洁无污并进行高压灭菌或干烤去热源处理。CW琼脂基础（含卡那霉素） 日本

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