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一浴法染色用沉淀防止剂Neoleve WA： Neoleve WA可用于腈纶/羊毛、CDP（阳离子可染涤纶）/羊毛的混纺纱线、织物以及交织品用阳离子染料/金属络合染料采用一浴法染色或一浴二段法染色时， ① 可防止染料的凝集和沉淀。 ② 可防止染料对两种纤维间的相互沾污。 ③ 同时具有酸性染料染色时的均染效果。 ④ 有助于染色工艺的合理化、缩短染色时间的非常有效的染色助剂。 [使用方法] ·作为沉淀防止剂的使用方法 关于使用量 有关Neoleve WA的用量，在阳离子染料和金属络合染料的沉淀防止同浴染色时，染料的溶解、分散、凝集状态因下列因素而异， ·各种染料的种类、型号 ·各种染料的浓度 ·染色的浴比 Neoleve WA的使用浓度应作相应调整，一般的使用浓度：1%～2%（对织物重）。详情可来电咨询。染色沉淀防止剂Neoleve WA 望界供！日本进口染色防沾剂厂家直销

混纺针织物：即以两种或两种以上不同纤维混合纺纱，然后编织所得的针织物。 混纺和交织物染色的注意事项： ·染料的选择，其选择的原则是； ·一染料在不同纤维中的发色效应，上染速率、上染饱和量，牢度是否接近。 ·如果是两类染料则应注意以下各点： ①防止产生沉淀，(阳离子和酸性染料，加入防沉剂) ②防止沾染(例染涤腈交织物，用一浴法染色) 　③要有相近的牢度 ·染色温度：在一浴一步法染色中所选用的染料其升温上染速率曲线是相似的。 ·染色PH值 ·助剂的影响日本进口染色防沾剂厂家直销防沾污剂-混纺织物防沾污剂价格-上海望界！

防沾剂Neoleve CDP-3： 普通涤纶/改性涤纶（CDP）交织面料，在用分散型阳离子染色时，希望普通涤纶成分留白的情况下，往往会发生分散型阳离子染料对普通涤纶成分发生沾污，特别在进行过减量加工后的面料，更容易发生普通涤纶成分的严重沾污。而且，一旦发生沾污，往往很难去除。 ·高温染色有助于防止污染的发生，但是考虑到CDP的牢度问题，并用元明粉在120℃下进行染色。虽然，并用元明粉后可防止CDP的强度下降，但也会带来染料的分解和加大污染等的问题。 ·Neoleve CDP-3的用量应根据CDP的成分比例和染色浓度调整，一般以对织物重0.5%（浅色）～2%（深色）。 ·过于强烈的还原清洗会影响分散型阳离子染料，因此选用纯碱。

上海望界贸易有限公司为专营精细化学品的国际贸易公司，产品涉及纺织印染工业、工业清洗剂产业、日用化学品和化妆品产业、环保和水质处理产业、金属表面处理和PCB加工产业、新材料和建材业等众多工业领域，公司凭借质量的产品和完善的服务活跃于上述工业领域。 按在纺织品加工中的用途分类，纺织助剂可分为：纺纱织造用剂、前处理剂、染色助剂、印花助剂、后整理剂等。 1、纺纱织造用剂：主要包括架料、油剂和抗静电剂等。 　　 　　 2、前处理剂：主要包括退浆剂、精练剂、脱胶剂、渗透剂、氧漂稳定剂等。 3、染色助剂：主要包括匀染剂、缓染剂、固色剂、防泳移剂、消泡剂、皂洗剂、剥色剂、增深剂、染色牢度改进剂和涂料染色粘合剂等。 4、印花助剂：主要包括印花糊料、增稠剂、涂料印花粘合剂等。 　　 5、后整理剂：主要包括柔软剂、硬挺剂、防皱防缩整理剂、拒水拒油整理剂、易去污整理剂、亲水与抗静电剂、***防臭整理剂等。锦、棉织物二浴染色法-锦纶防沾污剂NEOLEVE NYC-R-望界公司。

尼龙混纺•交织品染色尼龙污染防止剂Neoleve NYC-R： 在尼龙混纺品•交织品的染色过程中添加Neoleve NYC系列，可起到对尼龙污染的强力防止效果。 在对色相、手感及各项牢度没有损害的情况下，使尼龙的混纺品•交织品的同色染色、异色染色、单成分染色等成为可能。 [使用方法] ·Neoleve NYC系列的用量根据尼龙的混纺率和素材种类、染料浓度等进行适当调整，一般以1～3%（对织物重）的用量添加。 ·在染色时如果添加尼龙匀染剂，因尼龙匀染剂的种类而异，有些匀染剂会降低Neoleve NYC系列的污染防止效果，请事先进行充分试验。各类混纺织物染色防沾整理剂-望界公司。日本进口染色防沾剂厂家直销

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Emill SHA-50 为印花网的框及纱的**清洗剂。尤其在用阳离子染料、酸性染料印花时，某些染料对纱表面的涂膜层和补强剂容易造成着色污染，同时，附着在框的角落部位的染料难以去除。这样，有必要寻找一个能极其简单使印花网上所沾附的色浆脱落并洗净的清洗剂。

[性状]

·外 观 ：无色透明液体

·组 成 ：长链脂肪醇类

·离 子 型 ：非离子

·pH 值 ：酸性

·溶 解 性 ：能与水以任意比例混溶

[特长]

·Emill SHA-50 不会损伤印花网纱的表面涂膜和补强剂，而是在保护的同时能轻易地将所沾附的色浆和污染物等去除并洗净。

·Emill SHA-50 能在较低温度下发挥效果。

·Emill SHA-50 为低泡性，且具有优异的生物分解性。

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