产品名称:洁净烘箱产品介绍:本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。技术指标:1无尘等级:Class100:(符合FED-STD209E标准:0.3um≤30...
HMDS真空烤箱整机尺寸、真空腔体尺寸:1.内胆尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.载物托架:2块3.室温+10℃-250℃控温范围:温度分辨率:0.1℃温度波动度:±0.5℃4.真空泵:油泵或无油真空泵。真空度:133pa,5.加热方式:腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板(防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态)6.可放2寸晶圆片或4寸晶圆片;6寸晶圆片;8寸晶圆片等。7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间(正常工艺在50分钟-120分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为常规降温)。使用工业烤箱前的检查步骤。安徽工业烤箱手柄
工业烤箱,顾名思义,是在工业生产上用的的烤箱。在不同行业,不同的场所,在名称的叫法上不一样,比如:工业烘箱,干燥箱等。工业烤箱用途多:适用于烘烤有化学性气体及食品加工行业的欲烘烤物品、基板应力的去除、油墨的固化、漆膜的烘干等。使用于电子、电机、通讯、电镀、塑料、五金化工、食品、印刷、制药、PC板、粉体、含浸、喷涂、玻璃、陶瓷、木器建材……等等的精密烘烤、烘干、回火、预热、定型、加工等。质量连续炉的适用范围:连续炉即是连续作业炉,是指连续地或间歇地装料,工件在炉内不断移动,完成加热、保温,有时包括冷却在内全过程的热处理炉。高温工业烤箱的工厂工业烤箱使用时的注意事项。
可定制高温烘箱温度控制系统:1、采用数显微电脑温度控制器,控制精确可靠,精度:0.1℃(显示范围)。2、具有定时功能、控温保护功能,设有风机停转开关。电气控制系统:1、采用品牌电气控制元件。2、电气线路设计实用,合理布线,可靠放心。3、箱体顶部为电器控制柜,方便于集中检查维修。保护系统1、超温保护系统2、过电流保护3、快速熔断器4、接地保护可选择配件(需另外收费,订购时请注意)1、可编程控制器,可实现升温速率可调和保温时间可调,多段可编程。2、单独限温控制器,可实现在主控制器失灵后设备升温过高的情况下立即切断加热。3、无纸记录仪,通过USB接口将其记录的数据导入计算机可供分析、打印等,是有纸记录仪的更新换代产品,多通道温度记录。4、配RS-485接口,可连接计算机和记录仪,实现时时监控工作状态。5、温度测试孔,可实现不同测试线或仪器插入设备工作室内进行多种实验,测试孔孔径有φ25、φ50、φ80可选。6、载物托架,烘箱设备标配是2个载物托架,客户可根据自身需求增配托架数量。*技术细节变动之处,恕不另行通知,具体设备参数以咨询结果为准。
1.保温材料:采用正厂玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,有效的防止了热能浪费。2.电热部分:采用进口覆套式电热器(SHEATHEDHEATER)无尘无氧化电热发生器5风道部分:整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A,(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100;可靠先进的测控系统1温度控制装置:日本进口温控器,内置PID自动整定,斜率设定功能2温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出,温度采集探头为特制铠装K型热电偶3温度监控装置:采用日本六通道巡回检测有纸记录仪,可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。使用工业烤箱到底有什么好处?
下面为大家简单介绍一下温湿度振动三综合试验箱。
温湿度振动三综合试验箱广泛应用在对电工电子、家用电器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、电子、通讯、及其它相关产品零部件及材料进行高低温、恒定、交变湿热及振动冲击综合试验,并与单一因素作用相比更能真实地反映电工电子产品在运输和实际使用过程中对温湿度及振动复合环境变化的适应性,暴露产品的缺点,是新产品研制、样机试验、产品合格鉴定试验全过程必不可少的重要试验手段。
三综合试验是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验,具有极宽大的温湿度控制范围,可满足用户的各种需要采用独特的平衡调温调湿方式,可获得安全、精确的温湿度环境。同时可在三综合试验箱内将电振动应力按规定的周期施加到试品上,供用户对整机(或部件)、电器、仪器、材料等作温湿度、振动综合应力筛选试验,以便考核试品的适应性或对试品的行为作出评价。 上海工业烤箱的价格是多少?合肥工业烤箱标准
工业烤箱的优点体现在哪?安徽工业烤箱手柄
HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。  增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。安徽工业烤箱手柄
产品名称:洁净烘箱产品介绍:本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。技术指标:1无尘等级:Class100:(符合FED-STD209E标准:0.3um≤30...
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