EVG ® 6200 NT特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形补偿序列
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和转换工具
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG ® 6200 NT附加功能:
键对准
红外对准
智能NIL ®
µ接触印刷技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:75至200 mm
柔软的UV-NIL:75至200毫米
SmartNIL ®:**多至150mm
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:软UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
对准:软NIL:≤±0.5 µm;SmartNIL ®:≤±3微米
自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持
EVG的纳米压印光刻(NIL) - SmartNIL ® 是用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺。量产纳米压印推荐产品
HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产
■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)
■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术
■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章
■具备工作印章制造能力
EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作
■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构
■不同类型的母版的简单实现
■可变的光刻胶分配模式
■分配,压印和脱模过程中的实时图像
■用于压印和脱模的原位力控制
IQAligner纳米压印推荐型号 EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的,因为它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。
EVG ® 720特征:
体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术
集成式压印,UV固化脱模和工作印模制造
盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式
可选的顶部对准
可选的迷你环境
适用于所有市售压印材料的开放平台
从研发到生产的可扩展性
系统外壳,可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
75至150毫米
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²
对准:可选的顶部对准
自动分离:支持的
迷你环境和气候控制:可选的
工作印章制作:支持的
SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。
*分辨率取决于过程和模板
如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案,适用于第3代基材。
NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器,从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作,证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值,不仅有助于新技术和新工艺的开发,还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作,彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性,为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTRealView™高折射率玻璃晶圆是**AR/MR设备的关键组件,已经实现了批量生产。产品组合提供了高达,支持深度沉浸的AR/MR应用,视野更广,高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView™。这款**产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年SID显示行业奖(SIDDisplayIndustryAward2019)。关于肖特肖特是特种玻璃、微晶玻璃和相关高科技材料领域的**国际技术集团。公司积累了超过130年的经验,是众多行业的创新合作伙伴。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。连续纳米压印实际价格
SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术。量产纳米压印推荐产品
纳米压印光刻设备-处理结果:
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像
资料来源:EVG与SwissLitho
AG合作(欧盟项目SNM)
2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片
资料来源:EVG
3.高纵横比(7:1)的10 µm柱阵列
由加拿大国家研究委 员会提供
4.L / S光栅具有优化的残留层,厚度约为10 nm
资料来源:EVG
5.紫外线成型镜片300 µm
资料来源:EVG
6.光子晶体用于LED的光提取
多晶硅的蜂窝织构化(mc-Si)
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形结构50 µm
资料来源:EVG
8.**小尺寸的光模块晶圆级封装
资料来源:EVG
9.光子带隙传感器光栅
资料来源:EVG(欧盟Saphely项目)
10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相
资料来源:EVG 量产纳米压印推荐产品