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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

EVG ® 770特征:

微透镜用于晶片级光学器件的高 效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL ®

简单实施不同种类的大师

可变抗蚀剂分配模式

分配,压印和脱模过程中的实时图像

用于压印和脱模的原位力控制

可选的光学楔形误差补偿

可选的自动盒带间处理


EVG ® 770技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):100至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL

曝光源:大功率LED(i线)> 100 mW /cm²

对准:顶侧显微镜,用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm

较早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

有效印记区域:长达50 x 50毫米

自动分离:支持的


前处理:涂层:液滴分配(可选)


EVG的纳米压印光刻(NIL) - SmartNIL ® 是用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺。光学镜头纳米压印研发生产

光学镜头纳米压印研发生产,纳米压印

UV纳米压印光刻系统

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统

■高精度对准台

■自动楔形误差补偿机制

■电动和程序控制的曝光间隙

■支持***的UV-LED技术

■**小化系统占地面积和设施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自动化的全场纳米压印解决方案,适用于第3代基材

■体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

■专有的SmartNIL®技术和多用途聚合物印章技术

■集成式压印,UV固化,脱模和工作印模制作

■盒带间自动处理以及半自动研发模式


■适用于所有市售压印材料的开放平台


MEMS纳米压印国内代理步进重复纳米压印光刻可以从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。

光学镜头纳米压印研发生产,纳米压印

IQ Aligner®:用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

■用于光学元件的微成型应用

■用于全场纳米压印应用

■三个**控制的Z轴,用于控制压印光刻胶的总厚度变化(TTV),并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿

■粘合对准和紫外线粘合功能


紫外线压印_紫外线固化


印章

防紫外线基材

附加印记压印纳米结构分离印记

用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后,将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。

µ-接触印刷

软印章

基板上的材料

领取物料,物料转移,删除印章


EVG ® 720特征:

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术

集成式压印,UV固化脱模和工作印模制造

盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式

可选的顶部对准

可选的迷你环境

适用于所有市售压印材料的开放平台

从研发到生产的可扩展性

系统外壳,可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²

对准:可选的顶部对准

自动分离:支持的

迷你环境和气候控制:可选的

工作印章制作:支持的


IQ Aligner UV-NIL是自动化紫外线纳米压印光刻系统,是用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印的系统。

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SmartNIL技术简介

SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。广东纳米压印技术支持

EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。光学镜头纳米压印研发生产

    首先准备一块柔性薄膜作为弹性基底层,然后将巯基-烯预聚物旋涂在具有表面结构的母板上,弹性薄膜压印在巯基-烯层上,与材料均匀接触。巯基-烯材料可以在自然环境中固化通过“点击反应”形成交联聚合物,不受氧气和水的阻聚作用。顺利分离开母板后,弹性薄膜与固化后的巯基-烯层紧密连接在一起,获得双层结构的复合柔性模板。由于良好的材料特性,刚性巯基-烯结构层可以实现较高的分辨率。因此,利用该方法可以制备高 分辨的复合柔性模板,经过表面防粘处理后可以作为软压印模板使用。该研究利用新方法制备了以PDMS和PET为弹性基底的亚100nm线宽的光栅结构复合软压印模板。相关研究成果发表于《纳米科技与纳米技术杂志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(来自网络。光学镜头纳米压印研发生产

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纳米压印是一种用于工程与技术科学基础学科领域的工艺试验仪器,于2015年06月30日启用。
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