试验箱是一种特殊制造的受控环境,公司用来检查设备、产品的耐久性或稳定性,环境试验箱模拟产品在使用过程中可能遇到的气候条件。这些条件可能包括温度或湿度、海拔高度或地理位置的极端变化。测试人员也可能进行动态测试,将产品暴露在物理力(包括惯性或振动)下,以试图在产品在飞行中或高速率下使用之前发现故障。公司...
下面为大家介绍一下高温钟罩炉的结构系统。 一、炉体配置 炉膛结构:采用多晶莫来石材料砌筑而成 有效尺寸:φ 300×320mm(D×H) 设备重量:约 1200Kg 外观颜色:挂板采用高温喷塑,颜色为江淮蓝 外形尺寸:W1300×H2200×D1510 (mm),不含(囱、指示灯) 二、热工系统 1.额定温度 :1550℃ 2.限制温度 :1600℃ 3.加热元件: U 型硅钼棒 4.加热功率 :16kW 5.空炉保温功率 ≤8kW 6.温区个数 :1 个 7.控温点数 :1 点 8.热偶 :B 分度 9.程序**精度 :±2℃(大于 600℃,升温速率≤3℃/min) 10.控温稳定度 :±1℃(恒温平台) 11.炉膛温度均匀度: ±4℃(恒温 1500℃,2h)合肥真萍科技试验箱值得推荐。高低温恒定湿热试验箱型号如何选择
真空烘箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空烘箱的特点。 1.长方体工作室,使有效容积达到相当大,微电脑温度控制器,精确控温。 2.钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体,一目了然。 3.箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度 4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。 5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。 6.相当短加热时间,与传统干燥烘箱比加热时间减少50%以上。真空烘箱因为是由电力提供热能,而湿的物品是会导电的,故在使用上宜小心不要有漏电的现象发生,故一般烘箱都要接地使用,以保安全。若没有地线也要确认烘箱没有漏电的现象;若有轻微的漏电现象,可试着将插座拔起后将插脚以相反方向再插入,若没有漏电现象可小心使用,若仍有漏电现象则应立即停用。高低温恒定湿热试验箱供应厂家试验箱定制生产,价格从优。
无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家简单介绍一下无氧干燥箱。 1.技术指标与基本配置: 1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃; 1.2炉膛腔数:2个,上下布置; 1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度 1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪; 2.氧含量(配氧分析仪): 2.1高温状态氧含量:≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量:≤ 20ppm +气源氧含量 2.2控温稳定度:±1℃; 2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台);
电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的箱体结构。 1.本烘箱由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。 2.箱体采用先进设备制作、业内**的制造工艺流程、线条流畅、美观大方。 3.工作室材质为不锈钢、外箱材质为质量冷轧钢板,产品外壳使用环保金属漆喷制,整体设计美观大方,适合**实验室的颜色搭配。 4.工作室内的搁架不可调节。试验箱选购应该注意哪些呢?合肥真萍科技告诉您。
隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的技术参数。 1.送风方式:强制送风循环系统。 2.温度范围:RT+10℃~300℃。 3.温度精度:±1℃ 4.温度均匀性:±1℃ 5.温控装置:富士智能PID温控仪,LED数字显示,PID自动演算及定时。 6.材质:内胆不锈钢,外箱体钢板静电喷塑。 7.传送方式:链杆、链网、自动锟轮,相当强承重。 8.特制复合式电加热器。 9.保护装置:漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。合肥真萍科技-试验箱生产厂家。高低温恒定湿热试验箱供应厂家
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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。 增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。高低温恒定湿热试验箱型号如何选择
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上海工业烤箱温度不均匀
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