试验箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 多型定制
  • 是否定制
试验箱企业商机

连续炉即是连续作业炉,是指连续地或间歇地装料,工件在炉内不断移动,完成加热、保温,有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械机构连续地或间歇地进行装料和出料,连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量,提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的产品特性。 1.采用智能型温度控制模块,PID自动演算,LED显示,配合SSR大功率可控硅输出,能控制温度之精细度; 2.分段控制(当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管,降低加热功率,其达到省电效果) 3.内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘,防生锈、耐腐蚀),外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好); 4.整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制,设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制,防止失误动作; 5.当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时,自动切断加热电源,起到双重保护功能。合肥真萍科技的试验箱怎么样?实地考察下真萍就知道了。高低温高压试验箱生产厂商

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中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理,下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。 一、热工系统 1.额定温度 800℃ 2.较高温度 850℃ 3.加热元件 陶瓷外丝加热管 4.加热功率 18kw 5.空炉保温功率 约 9kw 6.温区个数 1 个 7.控温点数 2 点 8.热偶 K 分度 9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台) 10.炉膛温度均匀度 ±6℃(恒温 800℃,1h) 二、气氛系统 1.炉膛气氛 2 路氮气,流量计量程为 2~20L/min;每路流量可调节 2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放,废气 3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染 4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量: 5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量 6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量生产试验箱价格合肥真萍科技****,真诚推荐选择。

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精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技作为精密鼓风烤箱的质量原厂厂家,设备都是自主生产销售,质量可靠,品质保证,欢迎来电咨询。大家对精密鼓风烘箱有没有些许了解呢,下面小编就带大家走近精密鼓风烘箱,为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的参数。 技术参数: 1.型号:CB-9023A 2.产品类型:液晶显示 3.电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2% 4.控温范围:室温+10℃-200℃ 5.温度分辨率:0.1℃ 6.温度波动度:≤±0.2℃ 7.温度均匀度:≤±1.5% 8.输入功率:500W 9.工作室尺寸(mm):300(宽)*300(深)*270(高) 10.载物托架:2块 11.定时范围:0-9999分钟

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。试验箱的运作原理是什么?

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真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的技术指标。 1.无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个) 2.温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃) 3.温度均匀性:±2℃(空箱测试) 4.温度精确度:±1℃(空箱测试) 5.设备型号规格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700; 700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000; 1000*1300*1000;1000*1400*1000;试验箱哪家强,快联系合肥真萍科技。大试验箱标准

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中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理,下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。 一、冷却系统 1.冷却结构 无 2.产品降温 随炉降温 3.安全保护 4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护 5.设备安全升温速率 ≤5℃/min 二、温度控制系统 1.温度测量 采用 K 分度热偶测量 2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温 3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能 4.控制方式 固态继电器过零控制 5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。 ⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。高低温高压试验箱生产厂商

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