IQ Aligner工业自动化功能:盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理
晶圆直径(基板尺寸):高达200毫米
对准方式:
上侧对准:≤±0.5 µm
底侧对准:≤±1,0 µm
红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基板材料
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
曝光选项:间隔曝光/洪水曝光
系统控制
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
实时远程访问,诊断和故障排除
产能
全自动:第/一批生产量:每小时85片
全自动:吞吐量对准:每小时80片 HERCULES以**小的占地面积结合了EVG精密对准和光刻胶处理系统的所有优势。IQ Aligner NT光刻机传感器应用
EVG620 NT特征2:
自动原点功能,用于对准键的精确居中
具有实时偏移校正功能的动态对准功能
支持**/新的UV-LED技术
返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统
自动化系统上的手动基板装载功能
可以从半自动版本升级到全自动版本
**小化系统占地面积和设施要求
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
先进的软件功能以及研发与全/面生产之间的兼容性
便捷处理和转换重组
远程技术支持和SECS / GEM兼容性
EVG620 NT附加功能:
键对准
红外对准
纳米压印光刻(NIL) HVM光刻机供应商家EVG610 掩模对准系统,支持的晶圆尺寸:100 mm / 150 mm / 200 mm。
EVG ® 610曝光源:
汞光源/紫外线LED光源
楔形补偿
全自动软件控制
晶圆直径(基板尺寸)
高达100/150/200毫米
曝光设定:
真空接触/硬接触/软接触/接近模式
曝光选项:
间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光
先进的对准功能:
手动对准/原位对准验证
手动交叉校正
大间隙对准
EVG ® 610光刻机系统控制:
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制程序和参数
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
实时远程访问,诊断和故障排除
使用的纳米压印光刻技术为“无紫外线”
EVG120特征2:
先进且经过现场验证的机器人具有双末端执行器功能,可确保连续的高产量;
工艺技术卓/越和开发服务:
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
智能过程控制和数据分析功能[Framework SW Platform]
用于过程和机器控制的集成分析功能
设备和过程性能跟/踪功能;
并行/排队任务处理功能;
智能处理功能;
发生和警报分析;
智能维护管理和跟/踪;
技术数据:
可用模块;
旋涂/ OmniSpray ® /开发;
烤/冷;
晶圆处理选项:
单/双EE /边缘处理/晶圆翻转;
弯曲/翘曲/薄晶圆处理。
IQ Aligner光刻机支持的晶圆尺寸高达200 mm / 300 mm。
光刻机软件支持
基于Windows的图形用户界面的设计,注重用户友好性,并可轻松引导操作员完成每个流程步骤。多语言支持,单个用户帐户设置和集成错误记录/报告和恢复,可以简化用户的日常操作。所有EVG系统都可以远程通信。因此,我们的服务包括通过安全连接,电话或电子邮件,对包括经过现场验证的,实时远程诊断和排除故障。EVG经验丰富的工艺工程师随时准备为您提供支持,这得益于我们分散的全球支持机构,包括三大洲的洁净室空间:欧洲 (HQ), 亚洲 (日本) 和
北美 (美国). HERCULES光刻机系统:全自动光刻跟/踪系统,模块化设计,用于掩模和曝光,集成了预处理和后处理能力。本地光刻机微流控应用
整个晶圆表面高光强度和均匀性是设计和不断提高EVG掩模对准器产品组合时需要考虑的其他关键参数。IQ Aligner NT光刻机传感器应用
HERCULES 光刻轨道系统技术数据:
对准方式:
上侧对准:≤±0.5 µm;
底侧对准:≤±1,0 µm;
红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基材
先进的对准功能:
手动对准;
自动对准;
动态对准。
对准偏移校正:
自动交叉校正/手动交叉校正;
大间隙对准。
工业自动化功能:盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理
曝光源:汞光源/紫外线LED光源
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
楔形补偿:全自动软件控制;非接触式
曝光选项:
间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光
系统控制
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
实时远程访问,诊断和故障排除 IQ Aligner NT光刻机传感器应用
岱美仪器技术服务(上海)有限公司致力于仪器仪表,是一家贸易型公司。公司业务涵盖半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等,价格合理,品质有保证。公司注重以质量为中心,以服务为理念,秉持诚信为本的理念,打造仪器仪表良好品牌。岱美中国秉承“客户为尊、服务为荣、创意为先、技术为实”的经营理念,全力打造公司的重点竞争力。