工业烤箱的精确温度控制和热风循环系统确保了电子元器件在烘烤过程中的均一性,从而保证了产品的质量。无论是PCB板的油墨固化,还是LED灯珠的烘烤,工业烤箱都能够提供稳定、可靠的加热环境,确保产品的一致性和可靠性。随着电子技术的不断发展,对烘烤设备的要求也越来越高。工业烤箱通过不断改进和创新...
恒温恒湿试验箱的控制系统可说是整个设备的心脏,掌管着制冷、制热、控湿、循环、控制等大权。
在制冷方面,压缩机是采用德国进口的压缩机。制冷系统由高温部分和低温部分组成,每一部分是一个相对**的制冷系统。高温部分中制冷剂的蒸发吸收来自低温部分的制冷剂的热量而汽化;低温部分制冷剂的蒸发则从被冷却的对象(试验机内的空气)吸热以获取冷量。高温部分和低温部分之间是用一个蒸发冷凝器联系起来,它既是高温部分的冷凝器,也是低温部分的冷凝器。
加热系统采用完全**的镍铬合金电加热式,电阻率大、电阻温度系数小,在高温下变形小且不易脆化,自身加热温度可达1000~1500℃,使用寿命长。
加湿是恒温恒湿试验箱不同于高低温试验箱的相当主要一部分,恒温恒湿试验箱采用外置隔离式,全不锈钢锅炉式浅表面蒸发式加湿器。祛湿方式采用机械制冷祛湿,将空气冷却到**温度以下,使大于饱和含湿量的水汽凝结析出,这样就降低了湿度。
送风循环系统:空气循环系统由耐温低噪音空调型电机,多叶式离心风轮构成。它提供了试验机内空气的循环。 合肥真萍科技为您提供工业烤箱的详细介绍。上海小型工业烤箱
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。
一、热工系统
1.额定温度 800℃
2.较高温度 850℃
3.加热元件 陶瓷外丝加热管
4.加热功率 18kw
5.空炉保温功率 约 9kw
6.温区个数 1 个
7.控温点数 2 点
8.热偶 K 分度
9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台)
10.炉膛温度均匀度 ±6℃(恒温 800℃,1h)
二、气氛系统
1.炉膛气氛 2 路氮气,流量计量程为 2~20L/min;每路流量可调节
2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气*囱,用于废气排放,废气
3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染
4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量:
5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量
6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量
三、冷却系统
1.冷却结构 无
2.产品降温 随炉降温
3.安全保护
4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护
5.设备安全升温速率 ≤5℃/min
四、温度控制系统
1.温度测量 采用 K 分度热偶测量
2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温
3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能
4.控制方式 固态继电器过零控制
5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。
⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。 上海小型工业烤箱工业烤箱去哪找?合肥真萍科技告诉您。
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。
一、氮气监控系统:
1.1、2.3” LED 大屏幕数字显示湿度/温度。
1.2 、温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。
1.3 、温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。
1.4 、湿度控制:
2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。
2.4.2湿度在1%-60%RH 可调整。
1.5、温湿度记录功能:
2.5.1内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240 分钟可自行设定。
2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。
2.5.3 品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。
1.6、湿度警报系统:
1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能。
1.6.2可另外选配积层式警示灯。
1.7、温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。
产品名称:洁净烘箱
产品介绍:本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。
技术指标:
1 无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)
2温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃)
3温度均匀性:±2℃(空箱测试)
4温度精确度:±1℃(空箱测试)
5设备型号规格:
450*450*450450*600*450600*800*600600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000; 合肥真萍科技工业烤箱专业值得信赖。
下面为大家简单介绍一下真萍科技的产品之一——洁净烘箱。
本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。
技术指标:
可靠的测控系统
1温度控制装置:进口温控器,内置PID自动整定,斜率设定功能
2温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出,温度采集探头为特制铠装K型热电偶
3温度监控装置:采用六通道巡回检测 有纸记录仪,可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。
完善的控制系统,及安全防护措施
1操作控制系统,采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制,更快速,更稳定。
2防护措施:紧急停止,超温保护,断线报警,相序保护,过载保护,短路保护,漏电保护,及电磁门禁保护等 工业烤箱的原材料要求是什么?合肥真萍科技告诉您。上海小型工业烤箱
工业烤箱的制作方法难吗?合肥真萍科技告诉您。上海小型工业烤箱
HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。
增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 上海小型工业烤箱
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上海工业烤箱温度不均匀
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