下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的整机尺寸、真空腔体尺寸。1.内胆尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.载物托架:2块3.室温+10℃-250℃控温范围:温度分辨率:0.1℃温度波动度:0.5℃4.真空泵:油泵或无油真空泵。真空度:133p...
无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家介绍一下真萍科技无氧干燥箱。 一、技术指标与基本配置: 1.使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃; 2.炉膛腔数:2个,上下布置; 3.炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度 4.温度和氧含量记录:无纸记录仪; 二、氧含量(配氧分析仪): 1.高温状态氧含量:≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量:≤ 20ppm +气源氧含量 2.控温稳定度:±1℃; 2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台);寻找存储柜非标定制厂家,就来合肥真萍科技!泉州存储柜质量商家
真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。 1.长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。 2.双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。 3.箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。 4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。 5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。 6.真空程序分段控制,该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。泉州存储柜图片存储柜哪家好?推荐选择合肥真萍科技。
电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的箱体结构。 1.本烘箱由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。 2.箱体采用先进设备制作、业内**的制造工艺流程、线条流畅、美观大方。 3.工作室材质为不锈钢、外箱材质为质量冷轧钢板,产品外壳使用环保金属漆喷制,整体设计美观大方,适合**实验室的颜色搭配。 4.工作室内的搁架不可调节。
精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技作为精密鼓风烤箱的质量原厂厂家,设备都是自主生产销售,质量可靠,品质保证,欢迎来电咨询。大家对精密鼓风烘箱有没有些许了解呢,下面小编就带大家走近精密鼓风烘箱,为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的参数。 技术参数: 1.型号:CB-9023A 2.产品类型:液晶显示 3.电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2% 4.控温范围:室温+10℃-200℃ 5.温度分辨率:0.1℃ 6.温度波动度:≤±0.2℃ 7.温度均匀度:≤±1.5% 8.输入功率:500W 9.工作室尺寸(mm):300(宽)*300(深)*270(高) 10.载物托架:2块 11.定时范围:0-9999分钟合肥真萍科技的存储柜,值得推荐。
温湿度振动三综合试验箱,广泛应用在对电工电子、家用电器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、电子、通讯、及其它相关产品零部件及材料进行高低温、恒定、交变湿热及振动冲击综合试验,并与单一因素作用相比更能真实地反映电工电子产品在运输和实际使用过程中对温湿度及振动复合环境变化的适应性,暴露产品的缺点,是新产品研制、样机试验、产品合格鉴定试验全过程必不可少的重要试验手段。 三综合试验是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验,具有极宽大的温湿度控制范围,可满足用户的各种需要采用独特的平衡调温调湿方式,可获得安全、精确的温湿度环境。同时可在三综合试验箱内将电振动应力按规定的周期施加到试品上,供用户对整机(或部件)、电器、仪器、材料等作温湿度、振动综合应力筛选试验,以便考核试品的适应性或对试品的行为作出评价。如何挑选存储柜,敬请来电咨询真萍科技!江西存储柜参考价格
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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。 增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。泉州存储柜质量商家
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