试验箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 多型定制
  • 是否定制
试验箱企业商机

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的氮气监控系统。 1.2.3寸 LED 大屏幕数字显示湿度/温度。 2.温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。 3.温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。 4.湿度控制: 4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。 4.2湿度在1%-60%RH 可调整。合肥真萍科技试验箱专业值得信赖。厦门高低温交变试验箱

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下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的整机尺寸、真空腔体尺寸。 1.内胆尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm; 2.载物托架:2块 3.室温+10℃-250℃ 控温范围:温度分辨率:0.1℃ 温度波动度:±0.5℃ 4.真空泵:油泵或无油真空泵。真空度:133pa, 5.加热方式:腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板(防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态) 6.可放2寸晶圆片或4寸晶圆片;6寸晶圆片;8寸晶圆片等。 7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间(正常工艺在50分钟-120分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为 常规降温)。试验箱参考价格试验箱有什么特点?合肥真萍科技告诉您。

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三综合试验是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验,具有极宽大的温湿度控制范围,可满足用户的各种需要采用独特的平衡调温调湿方式,可获得安全、精确的温湿度环境。同时可在三综合试验箱内将电振动应力按规定的周期施加到试品上,供用户对整机(或部件)、电器、仪器、材料等作温湿度、振动综合应力筛选试验,以便考核试品的适应性或对试品的行为作出评价。下面为大家介绍一下真萍科技的温湿度振动三综合试验箱特点。 1.试验室与制冷系统整体组合式结构,紧凑美观,便于操作制冷压缩机组及主要配件均为口。 2.进口LCD彩色液晶触摸屏,温、湿度程序自动控制,配有RS232通讯接口 3.可根据用户要求选配不同制造商不同型号的振动台,振动台接口接口可有多种形式选用,保证冷、热、汽密封的同时,振动台具有良好的力学传递性。 4.可根据用户要求设计、制造不同规格。

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理,下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。 一、热工系统 1.额定温度 800℃ 2.较高温度 850℃ 3.加热元件 陶瓷外丝加热管 4.加热功率 18kw 5.空炉保温功率 约 9kw 6.温区个数 1 个 7.控温点数 2 点 8.热偶 K 分度 9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台) 10.炉膛温度均匀度 ±6℃(恒温 800℃,1h) 二、气氛系统 1.炉膛气氛 2 路氮气,流量计量程为 2~20L/min;每路流量可调节 2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放,废气 3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染 4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量: 5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量 6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量合肥真萍科技建材为您提供专业的试验箱定制服务。

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下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的技术指标。 1.HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。 2.低液报警装置,采用红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能) 3.温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报) 4.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)合肥真萍科技为您提供各种质量试验箱。高低温高压试验箱厂家直供

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。厦门高低温交变试验箱

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