EVG ® 770分步重复纳米压印光刻系统
分步重复纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作
EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从**
大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。
EVG770的主要功能包括精确的对准功能,完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制(制造)的***选择。山东纳米压印有谁在用
HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产
■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)
■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术
■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章
■具备工作印章制造能力
EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作
■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构
■不同类型的母版的简单实现
■可变的光刻胶分配模式
■分配,压印和脱模过程中的实时图像
■用于压印和脱模的原位力控制
IQAligner纳米压印国内用户HERCULES ® NIL是完全集成SmartNIL ®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。
HERCULES ® NIL特征:
全自动UV-NIL压印和低力剥离
**多300毫米的基材
完全模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)
200毫米/ 300毫米桥接工具能力
全区域烙印覆盖
批量生产**小40 nm或更小的结构
支持各种结构尺寸和形状,包括3D
适用于高地形(粗糙)表面
*分辨率取决于过程和模板
HERCULES ® NIL技术数据:
晶圆直径(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²
对准:≤±3微米
自动分离:支持的
前处理:提供所有预处理模块
迷你环境和气候控制:可选的
工作印章制作:支持的
EVG ® 6200 NT特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形补偿序列
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和转换工具
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG ® 6200 NT附加功能:
键对准
红外对准
智能NIL ®
µ接触印刷技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:75至200 mm
柔软的UV-NIL:75至200毫米
SmartNIL ®:**多至150mm
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:软UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
对准:软NIL:≤±0.5 µm;SmartNIL ®:≤±3微米
自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持
EVG620 NT支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。
EVG ® 620 NT特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形补偿序列
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和转换工具
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG ® 620 NT附加功能:
键对准
红外对准
SmartNIL
µ接触印刷技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片
SmartNIL ®:在100毫米范围
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:软UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
对准:
软NIL:≤±0.5 µm
SmartNIL ®:≤±3微米
自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部:SmartNIL ®:支持
EVG ® 610也可以设计成紫外线纳米压印光刻系统。贵州纳米压印高性价比选择
SmartNIL技术可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。山东纳米压印有谁在用
NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供比较好图案保真度nm)结构。
EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 山东纳米压印有谁在用
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