UV纳米压印光刻
EV Group提供完整的UV纳米压印光刻(UV-NIL)产品线,包括不同的***积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效,强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度,高度均匀的图案层和**少的残留层,并具有易于扩展的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNI技术达到了纳米压印的长期预期,即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能,低成本和具有批量生产能力的技术。
EVG ® 610也可以设计成紫外线纳米压印光刻系统。浙江纳米压印芯片堆叠应用
HERCULES ® NIL特征:
全自动UV-NIL压印和低力剥离
**多300毫米的基材
完全模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)
200毫米/ 300毫米桥接工具能力
全区域烙印覆盖
批量生产**小40 nm或更小的结构
支持各种结构尺寸和形状,包括3D
适用于高地形(粗糙)表面
*分辨率取决于过程和模板
HERCULES ® NIL技术数据:
晶圆直径(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²
对准:≤±3微米
自动分离:支持的
前处理:提供所有预处理模块
迷你环境和气候控制:可选的
工作印章制作:支持的
安徽纳米压印用于生物芯片HERCULES NIL 300 mm提供市场上**纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速高功率曝光和平滑压模分离。
EVG ® 510 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印
完全由软件控制的流程执行
闭环冷却水供应选项
外部浮雕和冷却站
EVG ® 510 HE技术数据:
加热器尺寸:150毫米 ,200毫米
比较大基板尺寸:150毫米,200毫米
**小基板尺寸:单芯片,100毫米
比较大接触力:10、20、60 kN
比较高温度:标准:350°C;可选:550°C
夹盘系统/对准系统
150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200
200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT
真空:
标准:0.1毫巴
可选:0.00001 mbar
EVG ® 610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从碎片到比较大150毫米。
该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。
EVG ® 6200 NT是SmartNIL UV紫外光纳米压印光刻系统。
客户示范
■工艺开发
■材料测试
■与合作伙伴共同研发
■资助项目
■小批量试生产
■IP管理
■过程技术许可证
■流程培训
→世界前列的洁净室基础设施
→**的设备
→技术**
→**计量
→工艺知识
→应用知识
→与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。
岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。浙江纳米压印芯片堆叠应用
EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。浙江纳米压印芯片堆叠应用
NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供比较好图案保真度nm)结构。
EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 浙江纳米压印芯片堆叠应用
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