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纳米压印基本参数
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  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
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纳米压印企业商机

EVG ® 510 HE热压印系统

应用:高度灵活的热压印系统,用于研发和小批量生产

EVG510 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有通用压花室以及真空和接触力功能,并管理适用于热压印的全部聚合物。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量纳米图案转印的工艺。


EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站 EVG的EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。步进重复纳米压印推荐产品

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IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光学元件的微成型应用

用于全场纳米压印应用

三个**控制的Z轴,可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

三个**控制的Z轴,用于压印抗蚀剂的总厚度变化(TTV)控制

利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

EVG专有的全自动浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合对准和紫外线粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL,镜片成型


曝光源:汞光源

对准:≤±0.5微米

自动分离:支持的

前处理:涂层:水坑点胶(可选)

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


CMOS纳米压印现场服务EVG的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术。

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SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

注:*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。

纳米压印光刻设备-处理结果:

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像

资料来源:EVG与SwissLitho

AG合作(欧盟项目SNM)

2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片

资料来源:EVG

3.高纵横比(7:1)的10 µm柱阵列

由加拿大国家研究委 员会提供

4.L / S光栅具有优化的残留层,厚度约为10 nm

资料来源:EVG

5.紫外线成型镜片300 µm

资料来源:EVG

6.光子晶体用于LED的光提取

多晶硅的蜂窝织构化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形结构50 µm

资料来源:EVG

8.**小尺寸的光模块晶圆级封装

资料来源:EVG

9.光子带隙传感器光栅

资料来源:EVG(欧盟Saphely项目)

10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相

资料来源:EVG SmartNIL 非常适合对具有复杂纳米结构微流控芯片进行高精度图案化,用在下一代药 物研究和医学诊断设备生产。

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UV纳米压印光刻系统

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统

■高精度对准台

■自动楔形误差补偿机制

■电动和程序控制的曝光间隙

■支持***的UV-LED技术

■**小化系统占地面积和设施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自动化的全场纳米压印解决方案,适用于第3代基材

■体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

■专有的SmartNIL®技术和多用途聚合物印章技术

■集成式压印,UV固化,脱模和工作印模制作

■盒带间自动处理以及半自动研发模式


■适用于所有市售压印材料的开放平台


EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻(UV-NIL)产品线。内蒙古纳米压印现场服务

HERCULES®NIL是完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产。步进重复纳米压印推荐产品

EVG ® 520 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印和纳米压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

气动压花选项

软件控制的流程执行


EVG ® 520 HE技术数据

加热器尺寸:150毫米,200毫米

比较大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:单芯片,100毫米

比较大接触力:10、20、60、100 kN

比较高温度:标准:350°C;可选:550°C

粘合卡盘系统/对准系统

150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

标准:0.1毫巴

可选:0.00001 mbar 步进重复纳米压印推荐产品

岱美仪器技术服务(上海)有限公司成立于2002-02-07,专业磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 等多项业务,主营业务涵盖[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。目前我公司在职员工达到11~50人人,是一个有活力有能力有创新精神的高效团队。公司业务范围主要包括:[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]等。公司奉行顾客至上、质量为首、的经营宗旨,深受客户好评。目前公司已经成为[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]的**企业,正积蓄着更大的能量,向更广阔的空间、更***的领域拓展。

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