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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

SmartNIL是行业领仙的NIL技术,可对小于40nm*的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现无人可比的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。注:分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息,请联系岱美仪器技术服务有限公司。SmartNIL技术可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。微透镜纳米压印美元价

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HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®的UV-NIL紫外光纳米压印系统。EVG的HERCULES®NIL产品系列HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®UV-NIL系统达200毫米对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案,具有EVG's专有SmartNIL®印迹技术HERCULESNIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟踪解决方案,适用于ZUI大200mm的晶圆,是EVG的NIL产品组合的ZUI新成员。HERCULESNIL基于模块化平台,将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULESNIL变成了“一站式服务”,将裸露的晶圆装载到工具中,然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。江苏纳米压印芯片堆叠应用HERCULES ® NIL是完全集成SmartNIL ®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。

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在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心,双方合作研发用于制造光学传感器的新材料,以及适用于大众化市场的晶圆级光学元件。(奥地利)与WINDACH(德国),2019年11月27日――EV集团(EVG)这一全球领仙的为微机电系统、纳米技术与半导体市场提供晶圆键合与光刻设备的供应商,金天宣布与高科技工业粘合剂制造商DELO在晶圆级光学元件(WLO)领域开展合作。这两家公司均在光学传感器制造领域处于领仙地位。它们的合作将充分利用EVG的透镜注塑成型与纳米压印光刻(NIL)加工设备与DELO先进的粘合剂与抗蚀材料,在工业,汽车,消费类电子产品市场开发与应用新型光学设备,例如生物特征身份认证,面部识别。目前双方正在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心(位于EVG总部,奥地利Florian)以及DELO在德国Windach的总部展开合作。双方致力于改善与加快材料研发周期。EVG的NILPhotonics解决方案支援中心为NIL供应链的客户与合作伙伴提供了开放的创新孵化器,旨在通过合作来缩短创新设备与应用的研发与推广周期。该中心的基础设施包括领仙技术的洁净室与支持NIL制造的主要步骤的设备,例如分步重复母版,透镜模制,以及EVG的SmartNIL®技术,晶圆键合与必要的测量设备。

该公司的高科技粘合剂以功能与可靠性闻名于世。根据客户的专门需求,公司对这些聚合物作出调整,使其具备其它特征。它们极其适合工业环境,在较短的生产周期时间内粘合各种微小的元件。此外,DELO紫外线LED固化设备与点胶阀的可靠度十分杰出。关于德路 德路(DELO)是世界前列的工业粘合剂制造商,总部位于德国慕尼黑附近的Windach。在美国、中国、新加坡及日本均设有子公司。2019财政年,公司的780名员工创造了。该公司产品在全球范围内广泛应用于汽车、消费类电子产品与工业电子产品。几乎每一部智能手机与超过一半的汽车上都使用该公司产品。DELO的客户包括博世、戴姆勒、华为、欧司朗、西门子以及索尼等。关于EVGroup(EVG)EV集团(EVG)是为生产半导体、微机电系统(MEMS)、化合物半导体、功率器件以及纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领仙供应商。该公司主要产品包括晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印光刻技术(NIL)与计量设备,,以及涂胶机、清洗机与检测系统。EV集团创办于1980年,可为遍及全球的众多客户与合作伙伴提供各类服务与支持。EVG®610和EVG®620NT / EVG®6200NT是具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。

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EVG®7200LA特征:专有SmartNIL®技术,提供了无人能比的印迹形大面积经过验证的技术,具有出色的复制保真度和均匀性多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本强大且精确可控的处理与所有市售的压印材料兼容EVG®7200LA技术数据:晶圆直径(基板尺寸):直径200毫米(蕞大Gen3)(550x650毫米)解析度:40nm-10µm(分辨率取决于模板和工艺)支持流程:SmartNIL®曝光源:大功率窄带(>400mW/cm²)对准:可选的光学对准:≤±15µm自动分离:支持的迷你环境和气候控制:可选的工作印章制作:支持的纳米压印是一种利用纳米技术进行压印的方法。EVG纳米压印实际价格

EVG®610和EVG®620NT /EVG®6200NT具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。微透镜纳米压印美元价

SmartNIL技术简介SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现无人能比的吞吐量,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。岱美愿意与您共同进步。微透镜纳米压印美元价

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