深圳单盘自动金相磨抛机制造厂商

金相磨抛机抛光案例： 打磨：240# 600# 1200# ，转速：300转左右，转盘方向：顺时针，压力：30N即可，每道砂纸时间：1分钟左右（划痕均匀，没有多面出现）打磨：4000# 沿着一个方面手磨，抛光：转速：300转左右，转盘方向：顺时针 ，压力：30N即可。 抛光：真丝绸布，纹路均匀，进口硬质背基金刚石喷雾抛光剂/金刚石悬浮抛光液：5微米 420毫升 时间：5-10分钟（喷2-3次溶液）防氧化抛光润滑液防止过于干燥过热，抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注：抛光前，抛光布保持干净，完全湿润；1、精抛短绒，进口硬质背基，2、进口工艺氧化铝抛光液：0.05微米， 3、防氧化抛光液时间：5-10分钟（喷2-3次溶液）会出现模糊氧化层，需要进行氧化抛光，同时去除表面细小划痕防止过于干燥过热，抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注：抛光前，抛光布保持干净，完全湿润 金相磨抛机可除去金相试样磨面上由细磨留下的磨痕，成为平整无疵的镜面。深圳单盘自动金相磨抛机制造厂商

金相磨抛机：抛光目的是消除细磨留下的磨痕，获得光亮无痕的镜面。方法有机械抛光、电解抛光、化学抛光和复合抛光等，常用的是机械抛光。（1）机械抛光是在抛光机上进行抛光，靠极细的抛光粉和磨面间产生的相对磨削和滚压作用来消除磨痕的，分为粗抛光和细抛光两种1）粗抛光粗抛光一般是在抛光盘上铺以细帆布，抛光液通常为Cr2O3、Al2O3等粒度为1-5μ的粉末制成水的悬浮液，一般一升水加入5-10克，手握样品在常用的抛光机上进行。边抛光边加抛光液，一般的钢铁材料粗抛光可获得光亮的表面。2）细抛光是在抛光盘上铺以丝绒，丝绸等，用更细的Al2O3、Fe2O3粉制成水的悬浮液，与粗抛光的方法相同。扬州双盘自动金相磨抛机金相磨抛机（单盘/双盘）工作盘：200mm、230mm、250mm。

金相磨抛机使用安全防范：在机器旋转部分旁进行工作时，必须注意不要使衣服或者头发被卷入到机器的旋转部分必须使用合理的安全工作服，操作员一定熟悉紧急按钮位置，紧急情况下可以快速停止设备；如果发现机器失灵或者听到异常噪声-立刻停止机器，拨打服务提供商技术支持电话寻求帮助；在任何维修之前，请务必确保机器电源处于断开状态，并且等待电容上的残余电位完全释放干净为止；使用者必须完全熟知机器的使用方法。任何与机器连接的设备、附件和使用的耗材必须按使用手册中描述的方法使用；使用者应当确保实际电压与机器背面标注的电压要求一致，机器必须接地，遵守当地规定。

在金相试样制备过程中，试样的磨、抛光是必不可少的工序，试样经过磨抛后，可获得光亮如镜的表面。此机器采用了变频器调速， 可使磨抛盘的转速在50-1000r/min之间，无极可调，通过更换金相砂纸和抛光织物可以完成试样的磨、抛工序，展现了它的应用性。壳体采用整体吸塑，外观新颖，具有转动平稳、噪声小、操作方便、工作效率高等特点，并自带冷却装置，可以在磨抛时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织。适用于工厂、大专院校、科研单位的金相试验室，是金相试栏麼抛光的设备。金相磨抛机（全自动）试样规格：Φ25 Φ30 Φ40 Φ50(标配Φ30，其余选配，支持定制)。

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。金相磨抛机防溅水椭圆水槽设计可靠保护部件的使用寿命及保持机台的整洁。深圳单盘自动金相磨抛机制造厂商

金相磨抛机（全自动）研磨头扭力：6Nm。深圳单盘自动金相磨抛机制造厂商

金相磨抛机故障排除：急停按键按下，当释放紧急停止按钮后该信息就会消失；锁限位故障，通讯超时、限位开关损坏或者线路故障断开，关机重启，检查开关或者线路；磨头不转动，通讯超时或者电机过载，关机重启，降低力度并继续制备进程；磨盘不转动，通讯超时或者电机过热，关机重启或者等待电机降温在开机，降低力度并继续制备进程；磨头磨盘电机不通知，通讯故障，关闭电源后重启；磨盘电机无法停止，数据库参数缺损行参数，在按启动键后再按停止；磨头上升后无法下降，通讯故障或者断气，关机重启，检查气源气压；加载气缸不伸出，通讯故障或者气压不够，停止制备启动，再次启动制备，检查气源。深圳单盘自动金相磨抛机制造厂商