工业烤箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
工业烤箱企业商机

高温无氧固化烘箱用途介绍:无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。1、技术指标与基本配置:1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;1.2炉膛腔数:2个,上下布置;1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪;2、氧含量(配氧分析仪):2.1高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量2.2控温稳定度:1℃;2.3温度均匀度:2%℃(260℃平台);合肥真萍科技为您提供专业的售后服务!淮安定制工业烤箱

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折叠订做产能确定尺寸规格,满足生产需求,产能高,可以选择履带式工业烤箱。就是我们说烘干生产线,隧道炉,烘道。产能低的或者实验用的小型烤箱都可以选择加工定做。折叠温度选择比实际使用温度高10度即可。根据工艺要求,计算好实际要求的温差,以保证烘烤的效果。举例:如果使用温度是150度,220度,360度,440度,按比较高设计温度500度做。4个温度,如果是同一种产品。控制上比较好选用可控硅。不同的产品,使用时低温状态下,温差要稍微大一些。150度和220度的实际使用效果,没有低温烤箱好。使用中温500度烤箱,150度烘烤温差比低温250度烤箱要高2~5度。还得看厂家的设备质量好坏。烤箱分为低温(0-250度)、中温250-600度)、高温(600-1500度)超过1200度公司建议采用碳硅棒加热,完全可以根据产品的工艺要求选择。不锈钢工业烤箱专卖工业烤箱制作原理是什么呢?合肥真萍科技为您专业解答。

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箱体结构:1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,N2进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘,内胆材料:采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。3保温材料:采用正厂玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,有效的防止了热能浪费。4电热部分:采用进口覆套式电热器(SHEATHEDHEATER)无尘无氧化电热发生器。

箱体结构:1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,N2进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘,内胆材料:采用进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。3保温材料:采用正厂玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,防止了热能浪费。4电热部分:采用覆套式电热器(SHEATHEDHEATER)无尘无氧化电热发生器5风道部分:整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A,(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100;工业烤箱定制生产,价格从优。

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优良连续炉的适用范围:连续炉即是连续作业炉,是指连续地或间歇地装料,工件在炉内不断移动,完成加热、保温,有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械机构连续地或间歇地进行装料和出料,连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量,提高劳动生产率和改善劳动条件。优良连续炉的产品特性:1、采用智能型温度控制模块,PID自动演算,LED显示,配合SSR大功率可控硅输出,能控制温度之精细度;2、分段控制(当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管,降低加热功率,其达到省电效果)3、内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘,防生锈、耐腐蚀),外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好);4、整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制,设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制,防止失误动作;5、当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时,自动切断加热电源,起到双重保护功能。合肥真萍科技为您提供工业烤箱相关专业解答。立式工业烤箱非标定制

合肥真萍科技的工业烤箱是否耐用?淮安定制工业烤箱

HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。淮安定制工业烤箱

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