晶间腐蚀是什么?以晶间腐蚀为起源,在应力和介质的共同作用下,可使不锈钢、铝合金等诱发晶间应力腐蚀,所以晶间腐蚀有时是应力腐蚀的先导,在通常腐蚀条件下,钝化合金组织中的晶界活性不大,但当它具有晶间腐蚀的敏感性时,晶间活性很大,即晶格粒与晶界之间存在着一定的电位差,这主要是合金在受热不当时,组织发生改变而引起的。所以晶间腐蚀是一种由组织电化学不均匀性引起的局部腐蚀蚀。此外晶界存在杂质时,在一定介质也也会引起晶间腐蚀。晶间腐蚀,腐蚀发生后,金属和合金的表面虽然仍保持一定的金属光泽,看不出被破坏的迹象。金相电解腐蚀厂家
电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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冰醋酸铬酸溶液: 冰醋酸 775亳升 铬酸酐 75克 铬酸钠 150克 |
10分钟以上,电压40~45伏,搅动溶液使其保持在30。C以下。作用较慢,但较安全。 |
抛光铜和铁效果很好。 |
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醋酸及冰醋酸溶液: 醋酐 765亳升 过氯酸(65%)185亳升 水 50亳升 用电解法溶入铝0.5% |
使用电流密度4~6安/厘米),使用电压50伏,浸蚀时间4~5分钟。溶液配制后放置24小时后方可使用,使用温度应低于30。C,以免引起炸裂。 |
适用于抛光钢和铁以不含8%的 |
电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。
晶间腐蚀操作主意事项,冷水机设置操作说明:温度设置:按set件会出现设置的温度值,按向上下键进行增加或减少就能设定运行的温度了,然后按ret键保存。不保存修改无效。温度下限设置:同时按住set和向上键,显示0;按向上键将0改为6,在按set键出现F0;在按向上键将F0改F9在按set键就会出现默认设置的最低温度;在按向上下键修改温度值;修改完成后按ret键保存即可,不保存无。重要提示:控制装置不得放置在通风柜内部,因为使用酸液和水雾可能导致敏感的电子设备受损。放在外部也得与酸蚀槽保持一定距离,避免操作时有酸液飞溅到控制器上。晶间腐蚀,可选择漏液传感器检测,有漏液停机报警。
低倍组织热腐蚀,故障排除
故障问题 |
故障原因 |
电源开关按下不通电 |
断路器跳闸或者电源按钮开关损坏 |
开机温度显示326.7 |
温度传感器接触不良或者损坏,需要更换传感器。 |
开机温度显示0, |
系统初始化不成功,进入隐藏控件进行初始化操作。 |
加热温度不变化 |
加热器损坏,或者导线接触不良。 |
晶间腐蚀,可连接循环冷凝水,不依赖外来水源,使冷凝水得到多次利用。金相电解腐蚀厂家
晶间腐蚀,合金检测的要求不一样一般检测清洁度、晶粒大小、晶粒分布是否均匀、晶粒有无明显的堆积、是否有夹杂物等根据金相图谱检验:无过烧;分布均匀程度;晶粒大小我想也学习一下铝合金金相,各元素在显微镜下是表现什么状态。不过可以看看国标,里面只是告诉怎样判断: GB/T3246-82 铝及铝合金加工制品显微组织检验方法; GB/T3247-82 铝及铝合金加工制品低倍组织检验方法 ; GB/T10849-89 铸造铝硅合金变质; GB/T10850-89 铸造铝合金过烧;GB/T10851-89 铸造铝合金孔。金相电解腐蚀厂家