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键合机基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG501
  • 是否定制
键合机企业商机

EVG®320自动化单晶圆清洗系统用途:自动单晶片清洗系统,可有效去除颗粒EVG320自动化单晶圆清洗系统可在处理站之间自动处理晶圆和基板。机械手处理系统可确保在盒到盒或FOUP到FOUP操作中自动预对准和装载晶圆。除了使用去离子水冲洗外,配置选项还包括兆频,刷子和稀释的化学药品清洗。特征多达四个清洁站全自动盒带间或FOUP到FOUP处理可进行双面清洁的边缘处理(可选)使用1MHz的超音速喷嘴或区域传感器(可选)进行高/效清洁先进的远程诊断防止从背面到正面的交叉污染完全由软件控制的清洁过程我们的服务包括通过安全的连接,电话或电子邮件,对包括现场验证,进行实时远程诊断和设备/工艺排除故障。天津BONDSCALE键合机

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EVGroup开发了MLE™(无掩模曝光)技术,通过消除与掩模相关的困难和成本,满足了HVM世界中设计灵活性和蕞小开发周期的关键要求。MLE™解决了多功能(但缓慢)的开发设备与快速(但不灵活)的生产之间的干扰。它提供了可扩展的解决方案,可同时进行裸片和晶圆级设计,支持现有材料和新材料,并以高可靠性提供高速适应性,并具有多级冗余功能,以提高产量和降低拥有成本(CoO)。EVG的MLE™无掩模曝光光刻技术不仅满足先进封装中后端光刻的关键要求,而且还满足MEMS,生物医学和印刷电路板制造的要求。EVG510键合机在不需重新配置硬件的情况下,EVG键合机可以在真空下执行SOI / SDB(硅的直接键合)预键合。

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EVG®510键合机特征 独特的压力和温度均匀性 兼容EVG机械和光学对准器 灵活的设计和配置,用于研究和试生产 将单芯片形成晶圆 各种工艺(共晶,焊料,TLP,直接键合) 可选的涡轮泵(<1E-5mbar) 可升级用于阳极键合 开室设计,易于转换和维护 生产兼容 高通量,具有快速加热和泵送规格 通过自动楔形补偿实现高产量 开室设计,可快速转换和维护 200mm键合系统的蕞小占地面积:0.8m2 程序与EVG的大批量生产键合系统完全兼容 技术数据 蕞/大接触力 10、20、60kN 加热器尺寸150毫米200毫米 蕞小基板尺寸单芯片100毫米 真空 标准:0.1毫巴 可选:1E-5mbar

用晶圆级封装制造的组件被guangfan用于手机等消费电子产品中。这主要是由于市场对更小,更轻的电子设备的需求,这些电子设备可以以越来越复杂的方式使用。例如,除了简单的通话外,许多手机还具有多种功能,例如拍照或录制视频。晶圆级封装也已用于多种其他应用中。例如,它们用于汽车轮胎压力监测系统,可植入医疗设备,军SHI数据传输系统等。晶圆级封装还可以减小封装尺寸,从而节省材料并进一步降低生产成本。然而,更重要的是,减小的封装尺寸允许组件用于更guangfan的高级产品中。晶圆级封装的主要市场驱动因素之一是需要更小的组件尺寸,尤其是减小封装高度。EVG键合机可配置为黏合剂,阳极,直接/熔融,玻璃料,焊料(包括共晶和瞬态液相)和金属扩散/热压缩工艺。

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EVG®850LTSOI和直接晶圆键合的自动化生产键合系统 用途:自动化生产键合系统,适用于多种熔融/分子晶圆键合应用 特色 技术数据 晶圆键合是SOI晶圆制造工艺以及晶圆级3D集成的一项关键技术。借助用于机械对准SOI的EVG850LT自动化生产键合系统以及具有LowTemp™等离子活化的直接晶圆键合,熔融了熔融的所有基本步骤-从清洁,等离子活化和对准到预键合和IR检查-。因此,经过实践检验的行业标准EVG850 LT确保了高达300mm尺寸的无空隙SOI晶片的高通量,高产量生产工艺。EVG键合机的特征有:压力高达100 kN、基底高达200mm、温度高达550°C、真空气压低至1·10-6 mbar。EVG820键合机质保期多久

EVG的GEMINI FB XT集成熔融键合系统,扩展了现有标准,并拥有更高的生产率,更高的对准和涂敷精度。天津BONDSCALE键合机

晶圆级封装的实现可以带来许多经济利益。它允许晶圆制造,封装和测试的集成,从而简化制造过程。缩短的制造周期时间可提高生产量并降低每单位制造成本。晶圆级封装还可以减小封装尺寸,从而节省材料并进一步降低生产成本。然而,更重要的是,减小的封装尺寸允许组件用于更广范的高级产品中。晶圆级封装的主要市场驱动因素之一是需要更小的组件尺寸,尤其是减小封装高度。岱美仪器提供的EVG的晶圆键合机,可以实现晶圆级封装的功能。天津BONDSCALE键合机

岱美仪器技术服务(上海)有限公司正式组建于2002-02-07,将通过提供以半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等服务于于一体的组合服务。是具有一定实力的仪器仪表企业之一,主要提供半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等领域内的产品或服务。我们强化内部资源整合与业务协同,致力于半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等实现一体化,建立了成熟的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪运营及风险管理体系,累积了丰富的仪器仪表行业管理经验,拥有一大批专业人才。值得一提的是,岱美中国致力于为用户带去更为定向、专业的仪器仪表一体化解决方案,在有效降低用户成本的同时,更能凭借科学的技术让用户极大限度地挖掘EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi的应用潜能。

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