NanoX-2000/3000系列3D光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量（PSI）、白光垂直扫描干涉测量（VSI）和单色光垂直扫描干涉测量（CSI）等技术的基础上，以其纳米级测量准确度和重复性（稳定性）定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。使用范围广:兼容多种测量和观察需求保护性:非接触式光学轮廓仪耐用性更强，使用无损可操作性:一键式操作，操作更简单，更方便NanoX-8000 的XY 平台蕞大移动速度：200mm/s 。氮化镓轮廓仪推荐型号
1.5.系统培训的注意事项如何使用电子书阅读软件和软、硬件的操作手册；数据采集功能的讲解：通讯端口、连接计算器、等待时间等参数的解释和参数设置；实际演示一一讲解；如何做好备份和恢复备份资料；当场演示各种报表的操作并进行操作解说；数据库文件应定时作备份，大变动时更应做好备份以防止系统重新安装时造成资料数据库的流失；在系统培训过程中如要输入一些临时数据应在培训结束后及时删除这些资料。备注：系统培训完成后应请顾客详细阅读软件操作手册，并留下公司“客户服务中心”的电话与个人名片，以方便顾客电话联系咨询。晶片轮廓仪技术服务LED光源通过多珍孔盘（MPD）和物镜聚焦到样品表面上，从而反射光。
轮廓仪能够描绘工件表面波度与粗糙度，并给出其数值的仪器，采用精密气浮导轨为直线基准。轮廓测试仪是对物体的轮廓、二维尺寸、二维位移进行测试与检验的仪器，作为精密测量仪器在汽车制造和铁路行业的应用十分广范。（来自网络）先进的轮廓仪集成模块60年世界水平半导体检测技术研发和产业化经验所有的关键硬件采用美国、德国、日本等PI，纳米移动平台及控制Nikon，干涉物镜NI，信号控制板和Labview64控制软件TMC隔震平台世界先进水平的计算机软硬件技术平台VS2012/64位。
轮廓仪在集成电路的应用封砖Bump测量视场：72*96（um）物镜：干涉50X检测位置：样品局部面减薄表面粗糙度分析封装：300mm硅片背面减薄表面粗糙度分析面粗糙度分析：2D,3D显示；线粗糙度分析：Ra,Ry，Rz，…器件多层结构台阶高MEMS器件多层结构分析、工艺控制参数分析激光隐形切割工艺控制世界为一的能够实现激光槽宽度、深度自动识别和数据自动生成，大达地缩短了激光槽工艺在线检测的时间，为了避免人工操作带来的一致性，可靠性问题欢迎咨询。每个共焦图像是通过样品的形貌的水平切片，在不同的焦点高度捕获图像产生这样的图像的堆叠。
涵盖面广的2D、3D形貌参数分析：表面三维轮廓仪可测量300余种2D、3D参数，无论加工的物件使用哪一种评定标准，都可以提供权面的检测结果作为评定依据，可轻松获取被测物件精确的线粗糙度、面粗糙度、轮廓度等参数。四、稳定性强，高重复性：仪器运用高性能内部抗震设计，不受外部环境影响测量的准确性。超精密的Z向扫描模块和测量软件完美结合，保证高重复性，将测量误差降低到亚纳米级别。三维表面轮廓仪是精密加工领域必不可少的检测设备，它既保障了生产加工的准确性，又提高了成品的出产效率，满足用户对各项2D，3D参数检测需求的同时，依然能够保持高重复性，高稳定性的运行，其对精密加工所产生的的作用是举足轻重的。NanoX-8000的VSI/CSI：垂直分辨率 < 0.5nm ；准确度<1% ；重复性<0.1% (1σ，10um台阶高)。上海轮廓仪代理商
NanoX-8000的XY光栅分辨率 0.1um，定位精度 5um，重复精度 1um。氮化镓轮廓仪推荐型号
轮廓仪对所测样品的尺寸有何要求？答：轮廓仪对载物台xy行程为140*110mm（可扩展），Z向测量范围蕞大可达10mm，但由于白光干涉仪单次测量区域比较小（以10X镜头为例，在1mm左右），因而在测量大尺寸的样品时，全检的方式需要进行拼接测量，检测效率会比较低，建议寻找样品表面的特征位置或抽取若干区域进行抽点检测，以单点或多点反映整个面的粗糙度参数；4.测量的蕞小尺寸是否可以达到12mm，或者能够测到更小的尺寸？如果需要了解更多，还请访问岱美仪器的官网。氮化镓轮廓仪推荐型号
岱美仪器技术服务（上海）有限公司是一家集研发、生产、咨询、规划、销售、服务于一体的贸易型企业。公司成立于2002-02-07，多年来在半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪行业形成了成熟、可靠的研发、生产体系。在孜孜不倦的奋斗下，公司产品业务越来越广。目前主要经营有半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪等产品，并多次以仪器仪表行业标准、客户需求定制多款多元化的产品。岱美仪器技术服务（上海）有限公司研发团队不断紧跟半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪行业发展趋势，研发与改进新的产品，从而保证公司在新技术研发方面不断提升，确保公司产品符合行业标准和要求。半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪产品满足客户多方面的使用要求，让客户买的放心，用的称心，产品定位以经济实用为重心，公司真诚期待与您合作，相信有了您的支持我们会以昂扬的姿态不断前进、进步。
