1.保温材料:采用正厂玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,有效的防止了热能浪费。2.电热部分:采用进口覆套式电热器(SHEATHEDHEATER)无尘无氧化电热发生器5风道部分:整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A,(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,C...
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度6℃(恒温800℃,1h)二、气氛系统1.炉膛气氛2路氮气,流量计量程为2~20L/min;每路流量可调节2.排气系统在炉膛顶部设置一个排气*囱,用于废气排放,废气3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染4.氧含量配氧含量分析仪分析氧含量:5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量三、冷却系统1.冷却结构无2.产品降温随炉降温3.安全保护4.报警指示超温、断偶、停水、停气等声光报警保护5.设备安全升温速率≤5℃/min四、温度控制系统1.温度测量采用K分度热偶测量2.控制仪表采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能4.控制方式固态继电器过零控制5.超温处理⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。合肥真萍工业烤箱的运用领域!杭州无尘工业烤箱
箱体结构:1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,N2进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘,内胆材料:采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。3保温材料:采用正厂玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,有效的防止了热能浪费。4电热部分:采用进口覆套式电热器(SHEATHEDHEATER)无尘无氧化电热发生器。上海工业烤箱的价格和照片工业烤箱使用时要考虑什么问题?
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。氮气监控系统:1.1、2.3”LED大屏幕数字显示湿度/温度。1.2、温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。1.3、温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。1.4、湿度控制:2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。2.4.2湿度在1%-60%RH可调整。1.5、温湿度记录功能:2.5.1内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240分钟可自行设定。2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。2.5.3品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。1.6、湿度警报系统:1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能。1.6.2可另外选配积层式警示灯。1.7、温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。
锂电池真空干燥箱产品描述:真空干燥箱,是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。特点:1、长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。2、双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。真萍科技是具有设计、制造、销售及售后服务能力的综合性企业。
洁净烘箱,本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。箱体结构:1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,N2进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘,内胆材料:采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。工业烤箱使用时的注意事项。泉州高温工业烤箱
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HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。  增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。杭州无尘工业烤箱
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