广东智能自动金相打磨机

正置金相显微镜OC-30DOC-30D正置金相显微镜适用于对不透明物体进行显微观察。本仪器配置落射照明器、长距平场消色差物镜(无盖玻片)、大视野目镜和内置偏光观察装置，具有图像清晰、衬度好，操作方便等特点，是金属学、矿物学、精密工程学、电子学等研究的理想仪器。适用于学校、科研、工厂等部门使用。 正置金相显微镜OC-30DOC-30D正置金相显微镜适用于对不透明物体进行显微观察。本仪器配置落射照明器、长距平场消色差物镜(无盖玻片)、大视野目镜和内置偏光观察装置，具有图像清晰、衬度好，操作方便等特点，是金属学、矿物学、精密工程学、电子学等研究的理想仪器。适用于学校、科研、工厂等部门使用。自动金相真空镶嵌机实惠。广东智能自动金相打磨机

透反射正置金相显微镜OC-40MRT一、介绍OC-40MRT透反射正置金相显微镜根据市场需求重新优化配置整体性能，以优异的成像性能，舒适的操作体验，为客户提供高性价比的金相分析及工业检测解决方案。二、用途1、观察筒采用新生儿睡床比较好舒适角度（30°）的观察筒，能够缓解用户在长时间工作状态下的紧张与疲劳，保证比较好观察状态。观察筒上的刻度，方便用户自行调节比较好瞳距范围。2、落射照明器采用柯拉照明系统，带视场光阑、孔径光阑和斜照明装置；预设起偏镜、检偏镜与滤**插槽。单颗5WLED暖白光照明（3000-3300K），与同类LED照明相比，能很大程度降低观察者的视觉疲劳。视场光阑与孔径光阑采用拉杆装置，中心可调,能灵活调节照明范围的大小，有效避免杂光对图像的影响。起偏镜与检偏镜可实现简易偏光观察，您也可根据需求，选择不同颜色的滤**获得理想的观察效果。3、工具存放装置M4直柄内六角扳手随机存放，充分利用了机身的可用空间，触手可及的工具使您的操作更加便捷。4、随机限位装置可有效防止样品与物镜碰触，避免损伤。采用RX50M***的聚光系统，数值孔径更大，亮度更高，大幅提升透射光通过率。天津低速精密金相样品制备金相制样切割机推荐。

金相自动磨抛机双盘PC-2000一、产品特点1、7寸触摸屏操作控制。2、压力可通过触摸屏设定，精确力度控制。3、采用西门子变频器和日本SMC气动元件。4、通过编程实现连续制样，每个工序完成自动停机，方便更换抛光组织物，同时可以暂停查看制样效果，每部工序***计时，能精确的制样和节省制样时间。同时也可以通过手动操作参数制样，方便制样多样性。5、一次可制样1-6个。6、自动锁紧功能7、LED灯照明。8、锥度磨盘系统，更换清理更容易。9、大口径的排水管道，解决易堵的问题。10、水流量可调。

金相磨抛机（双盘）PC-20产品特点：1、外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型，表面光滑美观、免喷漆，表面划痕修复简单。2、锥度磨盘系统，更换清理更容易。3、大口径的排水管道，解决易堵问题。4、底盘转动平稳，噪音小，支持快速转换盘系统。5、无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。可快速切换到预磨和抛光模式。6、水流量可调。金相磨抛机（双盘）PC-20产品特点：1、外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型，表面光滑美观、免喷漆，表面划痕修复简单。2、锥度磨盘系统，更换清理更容易。3、大口径的排水管道，解决易堵问题。4、底盘转动平稳，噪音小，支持快速转换盘系统。5、无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。可快速切换到预磨和抛光模式。6、水流量可调。全自动金相磨抛机 金属、合金腐蚀。

酸雾中和处理系统一．产品介绍ATC酸雾处理系统是**于实验室，尤其是实验室进行低倍样品腐蚀时，对腐蚀产生的酸雾进行强力抽排、中和处理，产生满足空气排放标准的系统。该系统耐腐蚀，美观，可定制以便和实验室其他设备和家具摆放整齐。该系统由排风柜和酸雾中和装置两部分组成，可和低倍酸蚀装置集成为一体。二．主要参数1、排风柜1）排风采用液晶面板、微机控制；2）采用低噪音，强力防酸风机；3）各部件由耐酸材料制成，长期使用不腐蚀；4）工作台面：专业耐酸碱PP台面，常规厚度8mm，也可加厚到16mm;5）台面支撑强度为150kg（厚度为8mm时），酸蚀槽和清洗池底部有支撑;6）柜体:采用厚8mm瓷白色PP制作，耐酸碱性能优异。内支撑架由CNC精确裁切加工，同色同质焊条熔焊修饰处理，表面无锐角。7）带PP水槽：尺寸：384*285*270mm8）尺寸(毫米)：1800（宽）X850(深)X2350(高)，可定制；9）低倍酸蚀装置和排风系统组成一体（见右图）；10）带加热水装置，以便及时利用热水冲洗样品；11）排放口直径：350-400mm；12）电压：需两种电压380V/220V;最大功率：4.0KW。2、酸雾中和装置低倍腐蚀或其他腐蚀产生的酸雾通过该装置时，酸雾由下而上，含碱性的水由上喷淋而下，制样自助镶嵌机检测速度快？陕西金相样品镶嵌

金相试样自动切割机制造商。广东智能自动金相打磨机

抛光粉一、用途                                                                                                抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。                                    二、规格参数                                                                                                   1、金刚石抛光微分：粒度：0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um，供用户自己选用载体，进行研磨抛光；                                                                    2、氧化铝研磨抛光粉：粒度：0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                              3、碳化硅研磨抛光粉：粒度：0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                                                                  4、氧化铬抛光粉：粒度：0.5um,1um，用于研磨抛光；                                                                                              广东智能自动金相打磨机