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光催化和生物净化设备光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是*****使用和研究的单一化合物光催化剂不知道里面的待遇怎么样呢。合肥哪里废气设备

新材料行业废气处理----碳纤维具有**度、高比模量、耐高温等优点，被广泛应用于航空航天、石油化工、医疗器械等领域，目前，我国碳纤维生产技术不断进步，而大规模生产的碳纤维品种中聚丙烯腈基碳纤维因生产工艺简单占有***优势，但是在生产过程中将产生大量有害的废气，一个是氧化过程(又称"预氧化过程"),另一个是高低温碳化过程。这2个过程会产生大量的废气,其中包括可燃物和有毒气体,因此必须加以处理方可排放。目前***的处理方法有：蓄热式氧化法（RTO）、热力燃烧法（TO）、吸附法、吸收法。杨浦区怎么样废气设备废气真的是看不见摸不着吗?

LCD/半导体行业废气处理---导体制造业是**物理、电子、电机、光学、化学、材料及管理科学的高科技工业。电子行业主要是元器件组装焊接过程中对大气的污染和电路板等器件清洗等表面处理过程中因使用一些化学药剂（如硫酸、盐酸、氟氯化碳、四氯化碳、三氯乙烷及其他有机卤化物）挥发造成对大气环境的污染，以及整机装配过程中产生的机械噪声和少量粉尘也会造成环境污染，这些污染气体会造成人群慢性或急性中毒。由于半导体元件制程中，使用多种酸碱溶液、有机溶剂及特殊的有毒气体，其产生的废气及有毒物质污染强度大，若做不好污染防治工作，将造成严重的环境污染。目前**的处理方法有：蓄热式氧化法（RTO）、浓缩转轮+RTO、热力燃烧法（TO）、催化燃烧法、吸附法、吸收法。

净化设备燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理。治理设备等离子体就是处于电离状态的气体，其英文名称是plasma，它是由美国科学 muir，于1927年在研究低气压下汞蒸气中放电现象时命名的。等离子体由大量的子、中性原子、激发态原子、光子和自由基等组成，但电子和正离子的电荷数必须体表现出电中性，这就是“等离子体”的含义。等离子体具有导电和受电磁影响的许多方面与固体、液体和气体不同，因此又有人把它称为物质的第四种状态。根据状态、温度和离子密度，等离子体通常可以分为高温等离子体和低温等离子体（包子体和冷等离子体）。其中高温等离子体的电离度接近1，各种粒子温度几乎相同系处于热力学平衡状态，它主要应用在受控热核反应研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态，各种粒子温度并不相同。其中电子温度( Te)≥离子温度(Ti)，可达104K以上，而其离子和中性粒子的温度却可低到300～500K。一般气体放电子体属于低温等离子体。废气处理的方式有多少种呢？

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吸附设备在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上，此现象称为吸附。吸附处理废气时，吸附的对象是气态污染物，气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质，多孔固体物质称为吸附剂。固体表面吸附了吸附质后，一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离，此现附。而当吸附进行一段时间后，由于表面吸附质的浓集，使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求，此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附，以协的吸附能力，这个过程称为吸附剂的再生。因此在实际吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循环过程，达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。合肥哪里废气设备

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