明暗场倒置金相显微镜的主要用途和特点,采用全新设计的无限远光学系统,可普遍应用于铸造、冶炼、热处理的研究,原材料检验或材料处理分析等多种检测的倒置显微镜;舒适而简单的操作模式。前置倍率显示功能前置物镜倍率显示功能,通过内置的倍率传感器,将当前倍率显示在仪器正前方,使研究工作更加便捷;全新智能ECO系统添加以环保、经济为理念的ECO红外感应...
查看详细 >>电动洛氏硬度计,采用自动加卸试验力机构,装有可调总试验力保持时间的电位器,试验力变换由变荷手轮的旋转而获得,所以操作简便迅速,具有很高的灵敏度,稳定性,适用于车间和实验室。功能特点:精确、可靠、耐用;外照明光源,可清晰看清所测试点;表盘直接读数,HRA、HRB、HRC标尺;适用范围广,操作简便,具有良好的经济性和实用性。初试验力10kgf...
查看详细 >>布氏硬度计主要用于组织不均匀的锻钢和铸铁的硬度测试,锻钢和灰铸铁的布氏硬度与拉伸试验有着较好的对应关系。布氏硬度试验还可用于有色金属和软钢,采用小直径球压头可以测量小尺寸和较薄材料。布氏硬度计多用于原材料和半成品的检测,由于压痕较大,一般不用于成品检测。布氏硬度试验条件的选择如同洛氏硬度试验关于标尺的选择一样,布氏硬度试验也要遇到试验条件...
查看详细 >>磨抛耗材,金刚石喷雾抛光剂如何选型:铝材,粗抛:金刚石喷雾抛光剂3-9µm,适合金相抛光布类型:无绒毛维纯棉材质,粗纺紧编,耐磨性极好。无绒毛耐磨性高于其他纤维,弹性恢复力高,耐磨性极好。真丝长绒密植布料,绒面松软厚实。中抛:金刚石喷雾抛光剂:0.5-3µm,无绒毛100%全真丝材质,精纺超薄面料。精抛:金刚石喷雾抛光剂0.05-0.5µ...
查看详细 >>金相磨抛机:金相工作者的经验是:在金相试样磨光过程中要多下功夫,因为抛光的作用能去除表层很薄一层金属,所以抛光结果在很大程度上取决于前几道工序的质量。有时抛光之前磨面上留有少量几条较深的磨痕,即使增加抛光时间也难以除去,一般必须重新磨光。故抛光之前应仔细检查磨面,是否留有单一方向均匀的细磨痕否则应重新磨光,以免白费时间。这是提高金相试样制...
查看详细 >>倒置金相显微镜原理,倒置显微镜和放大镜起着同样的作用,就是把近处的微小物体成一放大的像,以供人眼观察。只是显微镜比放大镜可以具有更高的放大率而已。物体置于物镜前方,离开物镜的距离大于物镜的焦距,但小于两倍物镜焦距。所以,它经物镜以后,必然形成一个倒立的放大的实像A'B'。A'B'靠近F2的位置上。再经目镜放大为虚像A''B''后供眼睛观察...
查看详细 >>维氏硬度计的实验操作步骤及要求1.维氏硬度计的表示方法维氏硬度计用HV表示,符号之前为硬度值,符号之后按如下顺序排列:(1)选择的试验力值(2)试验力保持时间(10~15一般不标注)示例:640HV30表示在试验力为294.2N下保持10-15s,测定的维氏硬度值为640。640HB30/20表示在实验力为294.2N下保持20s,测定的...
查看详细 >>金相显微镜的使用、注意事项及维护:使用说明:为配合各种不同数值孔径的物镜,设置了大小可调的孔径光栏和视场光栏,其目的是为了获得良好的物像和显微摄影衬度。当使用某一数值孔径的物镜时,先对试样正确调焦,之后,可调节视场光栏,这时从目镜视场里看到了视野逐渐遮蔽,然后再缓缓调节使光栏孔张开,至遮蔽部分恰到视场出现时为止,它的作用是把试样的视野范围...
查看详细 >>金相显微镜的使用和金相试样的制备方法:金相试样制备过程一般包括:取样、粗磨、细磨、抛光和浸蚀五个步骤。粗磨:粗磨的目的主要有以下三点:修整有些试样,例如用锤击法敲下来的试样,形状很不规则,必须经过粗磨,修整为规则形状的试样;磨平无论用什么方法取样,切口往往不十分平滑,为了将观察面磨平,同时去掉切割时产生的变形层,必须进行粗磨;倒角在不影响...
查看详细 >>维氏硬度计使用方法及注意事项:在使用仪器前应仔细阅读操作明书,认识仪器操作步骤,防止由于操作不当而造成仪器破坏。仪器电器元件、开关、插座安置位置严禁自行拆装。仪器试验力正在加载或试验力未卸除的环境下,严禁移动试件,否则容易造成仪器破坏。仪器在测量状态下,请不要施加试验力,如不小心按“启动"键,这时不去动仪器的别的工具,等候试验力施加完毕后...
查看详细 >>维氏硬度计实验环境要求:实验一般在10°C~35°C室温下进行,对于温度要求严格的实验室为23°C+;在稳固的基础上水平安装维氏硬度计;整个环境无振动,无腐蚀介质,相对湿度<65%。试样要求,试样表面应平坦光滑,无氧化物及外来污物,有其不能有油脂,表面粗糙度到达要求。对不同材料压痕距离的要求对钢、铜及铜合金两相邻压痕中心之间的距离大于压痕...
查看详细 >>磨抛耗材,氧化铝抛光粉,特点如下:具有活性,无毒无味,不溶于水和难溶于酸碱。粒度均匀、化学性能稳定,经特殊工艺加工处理,具有良好的研磨抛光性能,以满足各种材料抛光用途的需求。产品粒度比较均匀,具备硬度高,磨削力强,抛光效果快,效率高,光度亮等特点。粒度分布范围窄,研磨效率高,抛光效果好,研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料,表面光洁度优于白...
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